真空熱處理爐

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真空熱處理爐

所屬分類：真空熱處理爐
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發(fā)布日期：2018/12/25
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詳細(xì)介紹

系列真空熱處理爐

1.主要用途：

系列真空氣氛熱處理爐廣泛用于高校、科研院、所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫(yī)藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結(jié)和金屬熱處理等實驗和生產(chǎn)理想的設(shè)備。并可對爐內(nèi)通入熱處理工藝要求的氣體進(jìn)行材料處理（例如充入氫氣、氮氣或者其它所需氣體）。

引進(jìn)國外最先進(jìn)的技術(shù)，自主研發(fā)生產(chǎn)的高效、節(jié)能、環(huán)保、新型高溫節(jié)能真空熱處理爐。具有先進(jìn)合理的結(jié)構(gòu)，外觀美觀大方，表面采用環(huán)保氧化粉末進(jìn)行靜電噴塑進(jìn)行高溫作業(yè)，從而達(dá)到經(jīng)久耐用、不掉色、耐高溫、耐腐蝕的表面處理。

2.技術(shù)特點：

采用微電腦智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、全自動控制、自整定功能；多段程序編程，并可控制各種升溫、保溫、降溫程序；功率調(diào)節(jié)；控溫精度高；集成模塊可控硅控制、移相觸發(fā)。獨立超溫保護(hù)、超壓、超流、漏電、短路等保護(hù)，自動化程度較高，各項指標(biāo)達(dá)到國際先進(jìn)水平。

可選配無紙記錄儀，有紙記錄儀，電腦液晶觸摸屏，人機(jī)畫面通訊聯(lián)機(jī)功能，多臺設(shè)備一臺電腦控制，打印與保存數(shù)據(jù)，實現(xiàn)操作簡單方便，隨時可查看保存數(shù)據(jù)。

3.技術(shù)指標(biāo)：

項目	單位	熱場有效尺寸
爐膛尺寸	mm	200150150	300200200	300300500	500500800
溫度類別	℃	600℃、800℃、1000℃、1200℃、1400℃、 1700℃、1800℃、2200℃、
控溫精度	℃	±1℃
溫度均勻度	℃	±3-5℃
加熱方式	根據(jù)使用溫度選定，可采用電阻加熱或感應(yīng)加熱二種方式。